Khoa học tự nhiên

Chế tạo lớp phủ hạt nano cho pin mặt trời (23/08/2012)

GS vật lý Seamus "Shay" Curran, Giám đốc Viện năng lượng nano thuộc trường Đại học Houston đã phát triển một lớp phủ hạt nano cho các tấm pin mặt trời, nhờ vậy, dễ dàng giữ sạch các tấm pin, duy trì hiệu suất của chúng lâu hơn và giảm chi phí bảo dưỡng và vận hành.

Lớp phủ được cấp sáng chế này đã trải qua thử nghiệm thành công tại Viện Công nghệ Dublin và sẽ được một công ty kỹ thuật ở Bắc Carolina thử nghiệm tại hiện trường. GS Curran cho biết thử nghiệm thể hiện bước tiến to lớn trong việc đưa lớp phủ hạt nano và công nghệ liên quan ra thị trường.

Lớp phủ nano kỵ nước tự làm sạch (SCNH107TM) đã được cấp phép bởi C-Voltaics thuộc Đại học Houston, một công ty năng lượng start-up chuyên sản xuất năng lượng sạch thiết thực hơn phục vụ các ứng dụng không và có kết nối vào lưới điện, sẽ giám sát hoạt động tiếp thị của lớp phủ và "Storm Cell", máy phát điện năng lượng vận chuyển. 

Các tấm pin mặt trời cần phải có một bề mặt sạch để thu ánh nắng từ mặt trời một cách có hiệu quả, nhưng chúng thường bị bẩn do bụi, phấn hoa, nước và các hạt khác. Lớp phủ mới giữ vai trò như một hàng rào bảo vệ chống lại các chất ô nhiễm. Lớp phủ nano mỏng không thấm bụi, phấn hoa, nước và các hạt khác, nhờ đó, không cản trở đến khả năng hấp thụ ánh nắng mặt trời của các tấm pin. Lớp phủ có thể duy trì bề mặt kỵ nước lý tưởng này trong nhiều năm, làm giảm tổng chi phí bảo dưỡng. GS Curran cho rằng một tấn pin mặt trời bẩn có thể giảm tới 30% công suất điện. Về cơ bản, lớp phủ cho phép tấm pin mặt trời tự làm sạch.

Mặc dù lớp phủ được thiết kế để sử dụng trên các tấm pin mặt trời, nhưng GS Curran tin rằng nó còn có thể các ứng dụng rộng rãi như là lớp phủ chống ăn mòn cho các vật liệu khác. 

Nguồn: NASATI